Formación de películas anódicas en una aleación Al-W: Migración de fósforo
DOI:
https://doi.org/10.15332/iteckne.v8i1.262Palabras clave:
Aluminio, wolframio, películas anódicas, GDOES.Resumen
El presente trabajo investiga la incorporación y migración de especies de fósforo en las películas anódicas y su interacción con las especies de wolframio incorporadas a las películas anódicas desde el sustrato metálico. El estudio usa películas de alúmina, formadas sobre una aleación Al-15at.%W depositada catódicamente, en soluciones que contienen fosfatos. La morfología y la composición de las películas se determinaron por microscopia electrónica de barrido (SEM) y espectroscopia de emisión óptica (GDOES). Se observó que las películas están constituidas o por una región externa rica en wolframio y una región interna relativamente libre de wolframio, o solamente por una región rica en wolframio. Las especies de fósforo migran hacia dentro de la película más despacio en las películas que contienen wolframio que en las que no contienen wolframio. En contraste, la migración de las especies de wolframio hacia la solución no se ve afectada por la presencia de fósforo.
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P. G. Sheasby, R. Pinner, The surface treatment and finishing of aluminium and its alloys, ASM International, Finishing Publications Ltd, United Sates, 2001
R.B. Mason, J. Electrochem. Soc, 1955, 102, 671
G. C. Wood, P. Skeldon, G. E. Thompson, K. Shimizu, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 74
C. Cherki, J. Siejka, J. Electrochem. Soc, 1973, 120, 784
G. E. Thompson, R. C. Furneaux, G. C. Wood, Corros. Sci. 1978, 18, 481
G. E. Thompson, G. C. Wood, R. Hutchings, Trans. Inst. Met. Finish, 1980, 58, 21
S. J. Garcia-Vergara, P. Skeldon, G.E. Thompson, H. Habazaki, Electrochim. Acta, 2006 , 52, 681
S. J. Garcia-Vergara, P. Skeldon, G.E. Thompson, H. Habazaki, Surf. Interface Anal. 2007, 31, 860
F. Zhou, D.J. Leclere,. S.J. Garcia-Vergara, T. Hashimoto,. I.S. Molchan. H. Habazaki,. P. Skeldon, G.E. Thompson, J. Electrochem. Soc., 2010, 157, C437
H. Takahashi, K. Fujimoto, M. Nagayama, J. Electrochem. Soc. 1988,135, 1349
J. J. Randall, Jr, W. J. Bernard, Electrochim. Acta 1975, 20, 653.
S.J. García-Vergara, D. Le Clere, T. Hashimoto, H. Habazaki, P. Skeldon, G.E. Thompson, Electrochim. Acta 2009, 54,6403
G. E. Thompson, G. C. Wood, K. Shimizu, Electrochim. Acta 1981, 26,951
G. E. Thompson, G. C. Wood, K. Shimizu, Electrochim. Acta 1981, 26, 951
H. Habazaki, K. Shimizu, P. Skeldon, G. E. Thompson, G. C. Wood, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 2465
M. Curioni, E.V. Koroleva, P. Skeldon, G.E. Thompson, Electrochem. Acta, 2010, 55, 7044.
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